用于形成抗反射涂层的聚合物
专利权的终止
摘要
本发明公开了用于形成有机抗反射涂层的聚合物以及包含该聚合物的组合物，其中该有机抗反射涂层位于蚀刻层和光刻胶层之间，并且在光刻过程中吸收照射光。该用于形成有机抗反射涂层的聚合物具有如式1和通式2所示的重复单元，其中R1为取代的或未取代的C1－C5烷基。
基本信息
专利标题 ：
用于形成抗反射涂层的聚合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1828414A
申请号 ：
CN200610058604.7
公开（公告）日 ：
2006-09-06
申请日 ：
2006-03-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金相廷金德倍金宰贤
申请人 ：
株式会社东进世美肯
申请人地址 ：
韩国仁川广域市
代理机构 ：
北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
王达佐
优先权 ：
CN200610058604.7
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/09 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2014-04-16 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101581592488
IPC(主分类) : G03F 7/004
专利号 : ZL2006100586047
申请日 : 20060302
授权公告日 : 20110720
终止日期 : 20130302
号牌文件序号 : 101581592488
IPC(主分类) : G03F 7/004
专利号 : ZL2006100586047
申请日 : 20060302
授权公告日 : 20110720
终止日期 : 20130302
2011-07-20 ：
授权
2008-01-09 ：
实质审查的生效
2006-09-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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