抗蚀剂用化合物及放射线敏感性组合物
授权
摘要
本发明的放射线敏感性组合物包含1～80重量％的固体成分和20～99重量％的溶剂。固体成分含有化合物(B)，所述化合物(B)满足下述条件：(a)具有向多酚化合物(A)的至少一个酚性羟基导入酸解离性官能团的结构，所述多酚化合物(A)通过碳原子数为12～36、2～4价的芳香族酮或芳香族醛与碳原子数6～15、含有1～3个酚性羟基的化合物的缩合反应而合成；和(b)分子量为400～2000。含有化合物(B)的组合物对KrF准分子激光、远紫外线、电子射线或X射线等放射线为高敏感度，可以形成高分辨率、高耐热性、高耐蚀刻性的抗蚀剂图案，从而可以有效用作酸增殖型非高分子类抗蚀剂材料。
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂用化合物及放射线敏感性组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101088046A
申请号 ：
CN200580044296.6
公开（公告）日 ：
2007-12-12
申请日 ：
2005-12-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
越后雅敏小黑大
申请人 ：
三菱瓦斯化学株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京润平知识产权代理有限公司
代理人 ：
周建秋
优先权 ：
CN200580044296.6
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039 C07C39/15 C07C43/205 C07C43/23 G03F7/004 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2011-05-25 ：
授权
2008-02-06 ：
实质审查的生效
2007-12-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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