用于多层或多图案套准的压印参考模板及其方法
专利权的终止
摘要
一种形成多个掩膜的方法(以及结果结构)，包括：创建参考模板，使用压印光刻在用于给定芯片组的所有多个掩膜空白上印刷至少一个参考模板对准标记，并在所述多个掩膜空白的每一个上印刷子图案，并且将子图案与所述至少一个参考模板对准标记对准。
基本信息
专利标题 ：
用于多层或多图案套准的压印参考模板及其方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101088045A
申请号 ：
CN200580044505.7
公开（公告）日 ：
2007-12-12
申请日 ：
2005-10-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马修·E.·科尔博恩伊夫·C.·马丁查尔斯·T.·雷特纳西奥多·G.·范·克赛尔荷玛萨·K.·维克拉玛辛赫
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
李镇江
优先权 ：
CN200580044505.7
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2012-12-19 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101368717911
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利号 : ZL2005800445057
申请日 : 20051018
授权公告日 : 20110413
终止日期 : 20111018
号牌文件序号 : 101368717911
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利号 : ZL2005800445057
申请日 : 20051018
授权公告日 : 20110413
终止日期 : 20111018
2011-04-13 ：
授权
2008-02-06 ：
实质审查的生效
2007-12-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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