压印方法和图案化层
实质审查的生效
摘要
本发明公开了提供图案化层(50)的方法。该方法包括提供(2、3A、3B)基板(10)，该基板(10)具有施加了化合物的表面(11)。该化合物具有至少一种可缩合基团，该可缩合基团通过缩合反应与基板表面上的表面基团是反应性的。该化合物还具有用于接受质子的碱性基团。将可缩聚压印组合物层(30)施加(4)到该化合物的层上。将压印组合物层用图案化印模压印(5A、5B、5C)。在压印期间，压印组合物的缩聚导致形成图案化层。进一步提供了图案化层本身，以及其每一个都包括图案化层的光学元件和蚀刻掩模。
基本信息
专利标题 ：
压印方法和图案化层
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114514469A
申请号 ：
CN202180005538.X
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-06-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·A·维尔斯储雷恩
申请人 ：
皇家飞利浦有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
林晓红
优先权 ：
CN202180005538.X
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/00
申请日 : 20210616
申请日 : 20210616
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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