制造图案化记录介质的方法
专利权的终止
摘要
本发明提供了一种制造图案化记录介质的方法。该方法包括：将磁薄膜置于基片上；将硬质掩膜排列在磁薄膜上方，所述硬质掩膜具有多个规则分布在其中的通孔；照射硬质掩膜；和移走硬质掩膜。
基本信息
专利标题 ：
制造图案化记录介质的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1828732A
申请号 ：
CN200610058141.4
公开（公告）日 ：
2006-09-06
申请日 ：
2006-03-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李丙圭
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩明星
优先权 ：
CN200610058141.4
主分类号 ：
G11B5/84
IPC分类号 ：
G11B5/84
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体
G11B5/84
专用于制造记录载体的方法或设备
法律状态
2022-02-22 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G11B 5/84
申请日 : 20060306
授权公告日 : 20080416
终止日期 : 20210306
申请日 : 20060306
授权公告日 : 20080416
终止日期 : 20210306
2008-04-16 ：
授权
2006-10-25 ：
实质审查的生效
2006-09-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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