制造图案化的铁电介质的方法
专利权的终止
摘要
本发明提供了一种制造图案化铁电介质的方法。该方法包括：在基底上形成电极；使用至少用于制造铁电膜的前驱体在电极上形成具有预定图案的特征；源材料与前驱体特征反应，将前驱体特征转变成铁电特征。
基本信息
专利标题 ：
制造图案化的铁电介质的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1841660A
申请号 ：
CN200610065518.9
公开（公告）日 ：
2006-10-04
申请日 ：
2006-03-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
西蒙·布赫勒曼洪承范
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
郭鸿禧
优先权 ：
CN200610065518.9
主分类号 ：
H01L21/02
IPC分类号 ：
H01L21/02 H01L21/314
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
法律状态
2014-05-14 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101582162187
IPC(主分类) : H01L 21/02
专利号 : ZL2006100655189
申请日 : 20060320
授权公告日 : 20090107
终止日期 : 20130320
号牌文件序号 : 101582162187
IPC(主分类) : H01L 21/02
专利号 : ZL2006100655189
申请日 : 20060320
授权公告日 : 20090107
终止日期 : 20130320
2009-01-07 ：
授权
2006-12-06 ：
实质审查的生效
2006-10-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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