电介质薄膜、薄膜电容元件及其制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明涉及一种电介质薄膜,以组成式(Ba1-xSrx)yTiO3(0.18≤x≤0.45、0.96≤y≤1.04)表示,当X射线衍射图中的(100)面的衍射线峰值强度记为I(100)、(110)面的衍射线峰值强度记为I(110)时,其峰值强度比I(100)/I(110)为0.02~2.0。

基本信息
专利标题 :
电介质薄膜、薄膜电容元件及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1755848A
申请号 :
CN200510108020.1
公开(公告)日 :
2006-04-05
申请日 :
2005-09-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
内田清志堀野贤治斋田仁
申请人 :
TDK株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 :
龙淳
优先权 :
CN200510108020.1
主分类号 :
H01G4/06
IPC分类号 :
H01G4/06  H01G4/33  H01L29/00  H01L21/02  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01G
电容器;电解型的电容器、整流器、检波器、开关器件、光敏器件或热敏器件
H01G4/00
固定电容器;及其制造方法
H01G4/002
零部件
H01G4/018
电介质
H01G4/06
固体电介质
法律状态
2010-07-14 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003243684
IPC(主分类) : H01G 4/06
专利申请号 : 2005101080201
公开日 : 20060405
2006-05-31 :
实质审查的生效
2006-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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