图案化单层相位差材料的制造方法
公开
摘要

本发明提供一种图案化单层相位差材料的制造方法,其包括:(I)将包含液晶性聚合物的聚合物组合物涂布在基板上而形成涂膜的工序,上述液晶性聚合物具有:在低于最佳曝光量的曝光量下曝光量越多则取向性增加,在高于最佳曝光量的曝光量下曝光量越多则取向性减少的性质;(II)对工序(I)得到的涂膜照射2次紫外线以产生高各向异性区域和低各向异性区域的工序,其中,至少1次在隔着掩模的同时进行照射,至少1次使用偏振紫外线进行照射,上述高各向异性区域通过照射偏振紫外线而具有高光学各向异性,上述低各向异性区域通过使紫外线的量在低于最佳曝光量的区域中不足,和在高于最佳曝光量的区域中过剩而具有相对低的光学各向异性;以及(III)对工序(II)得到的涂膜加热而得到相位差材料的工序。

基本信息
专利标题 :
图案化单层相位差材料的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114616518A
申请号 :
CN202080074674.X
公开(公告)日 :
2022-06-10
申请日 :
2020-11-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
藤枝司根木隆之
申请人 :
日产化学株式会社
申请人地址 :
日本国东京都中央区日本桥二丁目5番1号
代理机构 :
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 :
孙明
优先权 :
CN202080074674.X
主分类号 :
G02F1/13363
IPC分类号 :
G02F1/13363  G02B5/30  C08F246/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1334
基于聚合物分散型液晶,例如微囊密封型液晶的
G02F1/13363
双折射元件,例如用于光学补偿的
法律状态
2022-06-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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