面形状形成方法及其装置,磁头飞行面形成方法及其装置
专利权的终止
摘要

本发明提供的面形状形成装置包括:对蚀刻对象(1)的规定表面形成规定形状的保护层的保护层形成装置、以及对形成有保护层的蚀刻对象(1)的规定表面进行蚀刻处理的蚀刻装置,其中,保护层形成装置包括:在蚀刻对象的规定表面上附着保护层材料的保护层附着装置,以及对该被附着的保护层材料照射激光束并去除一部分保护层材料从而修整成规定形状的激光照射装置(2)。本发明的面形状形成装置可短时间、低成本的形成蚀刻对象的面形状,并实现该形成的面形状的高精度化。

基本信息
专利标题 :
面形状形成方法及其装置,磁头飞行面形成方法及其装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1822109A
申请号 :
CN200610005991.8
公开(公告)日 :
2006-08-23
申请日 :
2006-01-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
伊藤善映中田刚上田国博
申请人 :
新科实业有限公司
申请人地址 :
香港新界沙田香港科学园科技大道东六号新科中心
代理机构 :
广州三环专利代理有限公司
代理人 :
郝传鑫
优先权 :
CN200610005991.8
主分类号 :
G11B5/60
IPC分类号 :
G11B5/60  G11B5/127  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的;用磁性方法进行重现的;为此所用的记录载体
G11B5/48
磁头相对于记录载体的配置或安装
G11B5/58
具有在换能工作期间为保持磁头对准记录载体而移动磁头的设施的,例如,补偿记录载体表面的不规则性或轨迹跟踪的
G11B5/60
磁头离记录载体的流体动力学间隙
法律状态
2017-03-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101706174774
IPC(主分类) : G11B 5/60
专利号 : ZL2006100059918
申请日 : 20060116
授权公告日 : 20110511
终止日期 : 20160116
2011-05-11 :
授权
2008-03-19 :
实质审查的生效
2006-08-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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