表面形成方法及装置、磁头及其制造方法
发明专利申请公布后的驳回
摘要
本发明提供一种具有对规定结构体R进行表面形成处理的表面形成部的表面形成装置，其中，表面形成部是对结构体照射具有规定照射能量、并可向一定方向照射的能量束的照射部(1)。通过本发明的表面形成装置可得到不发生机械加工变质、均匀且高品质的结构体。
基本信息
专利标题 ：
表面形成方法及装置、磁头及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1811922A
申请号 ：
CN200610005988.6
公开（公告）日 ：
2006-08-02
申请日 ：
2006-01-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
伊藤善映中田刚上田国博
申请人 ：
新科实业有限公司
申请人地址 ：
香港新界沙田香港科学园科技大道东六号新科中心
代理机构 ：
广州三环专利代理有限公司
代理人 ：
郝传鑫
优先权 ：
CN200610005988.6
主分类号 ：
G11B5/39
IPC分类号 ：
G11B5/39
IPC结构图谱
G
G部——物理
G11
信息存储
G11B
基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储
G11B5/00
借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体
G11B5/127
磁头的结构或制造，例如电感应的
G11B5/33
磁通敏感磁头的结构或制造
G11B5/39
使用磁阻装置的
法律状态
2011-09-14 ：
发明专利申请公布后的驳回
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101183763851
IPC(主分类) : G11B 5/39
专利申请号 : 2006100059886
公开日 : 20060802
号牌文件序号 : 101183763851
IPC(主分类) : G11B 5/39
专利申请号 : 2006100059886
公开日 : 20060802
2008-03-19 ：
实质审查的生效
2006-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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