正型光阻组合物及其制备方法与应用
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供与既有的正型光阻组合物相同或具有此数量以上的高敏感度、高分辨率、特别是高反射性基板上的图样形状良好的状态下，减少驻波的发生、降低线边缘粗糙度等特性的正型光阻材料。具有上述特征的正型光阻组合物中的基础树脂所包含的聚合物具有一重复单元，该重复单元含有在248nm波长的光线下会进行吸收的酸不稳定基，而且，该重复单元是以聚合物所有重复单元的1％～10％的比例被包括在该基础树脂内。
基本信息
专利标题 ：
正型光阻组合物及其制备方法与应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1821879A
申请号 ：
CN200610008521.7
公开（公告）日 ：
2006-08-23
申请日 ：
2006-02-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
武田隆信福田英次前田和规渡边聪
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 ：
高龙鑫
优先权 ：
CN200610008521.7
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039 G03F7/16 G03F7/20 G03F7/32 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2010-02-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-12-20 ：
实质审查的生效
2006-08-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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