一种阻焊干膜光阻剂、其制备方法及应用
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种阻焊干膜光阻剂、其制备方法及应用，属于线路板生产制作技术领域。该阻焊干膜光阻剂具有3层结构，分别为光阻剂层1、光阻剂层2和光阻剂层3；其中光阻剂层1含有环氧丙烯酸酯主体树脂、可光固化单体、热固化催化剂和自由基引发剂；光阻剂层2含有羧基的丙烯酸酯化合物、具有可热固化官能团的热固化树脂、具有至少两个可光固化不饱和官能团的光聚合单体、光引发剂、热固化催化剂；光阻剂层3包含有羧基的高分子粘合剂、光聚合单体、热聚合抑制剂、自由基光引发剂。本发明提供的阻焊干膜光阻剂，能结合阻焊干膜及高解析度的干膜光阻剂形成各方面性能较好的干膜。
基本信息
专利标题 ：
一种阻焊干膜光阻剂、其制备方法及应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114545734A
申请号 ：
CN202210223873.3
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-03-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
杜永杰邓晓明张卫国彭威杨炀李智新
申请人 ：
珠海市能动科技光学产业有限公司
申请人地址 ：
广东省珠海市金湾区南水镇化联四路15号
代理机构 ：
北京众合诚成知识产权代理有限公司
代理人 ：
李力
优先权 ：
CN202210223873.3
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/038 G03F7/033 G03F7/032 H05K3/06
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20220309
申请日 : 20220309
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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