负型光阻剂
实质审查的生效
摘要
本发明的负型光阻剂主要是由高分子树脂(Resin)、感光起始剂(Photo initiator)、单体(Monomer)、溶剂(Solvent)所组成；亦可配合加入颜料(Pigment)、添加剂(Additives)，而获致一种尤适合搭配刮刀式涂布法(Slit Coating)应用在玻璃基板涂布的负型光阻剂。
基本信息
专利标题 ：
负型光阻剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1987644A
申请号 ：
CN200510134760.2
公开（公告）日 ：
2007-06-27
申请日 ：
2005-12-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郭光埌戴伟仁温世豪
申请人 ：
新应材股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园县龙潭乡三和村新和路455号
代理机构 ：
北京申翔知识产权代理有限公司
代理人 ：
周春发
优先权 ：
CN200510134760.2
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03F7/032
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2007-09-19 ：
实质审查的生效
2007-06-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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