光阻涂布装置
授权
摘要
本实用新型有关于一种光阻涂布装置，用以形成一光阻层于一基材上，包括一基材固持构件，用以固持一基材；一旋转构件，水平设置于基材固持构件的至少一接合部处，其中旋转构件用以转动或线性移动基材固持构件；以及一喷淋构件，设置于基材固持构件的上方，并沿一滑轨移动，用以将一光阻材料喷洒于基材以于基材上形成光阻层，其中喷淋构件的移动方向与基材固持构件的转动方向垂直或与基材固持构件的线性移动方向垂直。本实用新型的装置可于多种基材上形成光阻层，所形成的光阻层也具有较好的均匀度，且可缩短成膜时间。
基本信息
专利标题 ：
光阻涂布装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020453191.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-01
授权号 ：
CN211506165U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
林刘恭
申请人 ：
光群雷射科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹科学园区
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩嫚嫚
优先权 ：
CN202020453191.8
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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