一种用于掩膜版光阻涂布夹具的装置
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摘要
本实用新型公开了一种用于掩膜版光阻涂布夹具的装置，包括主体框架，所述主体框架为矩形框，还包括挡块和垫块，所述挡块至少设置4个，所述垫块设置4个，所述垫块设置在主体框架的2个对称边上均设置有若干T形槽，所述挡块和垫块可拆卸式设置在T形槽内，主体框架同一侧上的挡块设置在2个垫块之间，4个垫块用于放置掩膜版，4个垫块分别与掩膜版的四个角相匹配，所述挡块设置在掩膜版的上方。本实用新型优点是：垫块可以根据掩膜版尺寸自由调整位置，提高了工件的灵活性和通用性；材料除具有高强度、不产尘、防静电的特点；提高了机台的利用率和降低生产成本。
基本信息
专利标题 ：
一种用于掩膜版光阻涂布夹具的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021590247.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-04
授权号 ：
CN212515343U
授权日 ：
2021-02-09
发明人 ：
林伟郑宇辰林超周荣梵王伟轶
申请人 ：
成都路维光电有限公司
申请人地址 ：
四川省成都市高新区康强三路1666号
代理机构 ：
成都行之专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
唐邦英
优先权 ：
CN202021590247.0
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F1/68 G03F1/80
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-02-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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