用于装配在光阻涂布机上的旋转马达
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摘要
一种用于装配在光阻涂布机上的旋转马达，包括：马达本体，所述马达本体内部具有磁铁以及线圈组，所述线圈组围绕在所述磁铁外围，所述磁铁和所述线圈组之间留有间隙以供所述磁铁旋转；真空腔，所述真空腔设置于所述马达本体下方，所述真空腔连接抽气管；转轴，所述转轴中心呈中空，所述转轴插设于所述磁铁中心且向上延伸至所述马达本体外，所述转轴下端向下延伸至所述真空腔内；转盘，所述转盘可拆卸地套合在所述转轴上；所述转轴在所述马达本体内部上方的位置采用第一轴承固定；所述转轴在所述马达本体内部下方的位置采用第二轴承固定。所述旋转马达可以装配在光阻涂布机上，且稳定性高。
基本信息
专利标题 ：
用于装配在光阻涂布机上的旋转马达
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020491130.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-07
授权号 ：
CN211956118U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
尹安和
申请人 ：
芯米（厦门）半导体设备有限公司
申请人地址 ：
福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区春风路6号第三层301
代理机构 ：
厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吴圳添
优先权 ：
CN202020491130.0
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 H02K1/27 H02K5/16 H02K11/21
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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