用于光阻涂布显影设备的散热装置及光阻涂布显影设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于光阻涂布显影设备的散热装置,该散热装置包括第一散热板、第二散热板及连接架,所述第一散热板、连接架、第二散热板由上至下依次叠装连接,所述连接架中空,以使第一散热板和第二散热板之间形成一空腔,从而让第一散热板和第二散热板相互传递温度的能力减弱,以达到散热效果最佳;该散热装置夹设于光阻涂布显影设备的第一机械臂和第二机械臂的中间,起到隔温、散热的作用,有效调节第一机械臂和第二机械臂之间不窜温,将冷腔和热腔温控系统延伸至机械手臂和半导体晶圆上,大大改良了晶圆的处理工艺,有效提高了半导体的生产稳定性和产品良率。

基本信息
专利标题 :
用于光阻涂布显影设备的散热装置及光阻涂布显影设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021133406.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-18
授权号 :
CN212623563U
授权日 :
2021-02-26
发明人 :
许志雄
申请人 :
芯米(厦门)半导体设备有限公司
申请人地址 :
福建省厦门市火炬高新区(翔安)产业区春风路6号第三层301
代理机构 :
厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
吴圳添
优先权 :
CN202021133406.4
主分类号 :
G03F7/16
IPC分类号 :
G03F7/16  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2021-02-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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