清洗装置、涂布·显影装置以及清洗方法
专利权的终止
摘要
在密闭容器(41)的内部，晶片(W)通过真空卡盘(42)以在密闭容器(41)内面和晶片(W)之间形成有小的间隙的状态被水平保持。在从流体供给路径(5)端部的流体供给孔(40)朝向晶片(W)的表面的中心部供给清洗液的同时，从沿着以晶片(W)的中线轴线为中心的圆周设置在密闭容器(41)的底部的沟的形态的流体排出部(44)排出清洗液。清洗液在充满晶片(W)表面和密闭容器(41)之间的间隙的状态下从晶片(W)的中心部向边缘部一边展宽一边流动，除去晶片上附着的粒子，从流体排出部(44)排出。能够不旋转晶片(W)地确实而且均匀地除去粒子。清洗装置(4)整体的尺寸也小。
基本信息
专利标题 ：
清洗装置、涂布·显影装置以及清洗方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1818795A
申请号 ：
CN200610008997.0
公开（公告）日 ：
2006-08-16
申请日 ：
2006-01-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
福田昌弘山本太郎
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
张天安
优先权 ：
CN200610008997.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/26 H01L21/00
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2018-02-27 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20060128
授权公告日 : 20090415
终止日期 : 20170128
申请日 : 20060128
授权公告日 : 20090415
终止日期 : 20170128
2009-04-15 ：
授权
2007-01-03 ：
实质审查的生效
2006-08-16 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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