涂布显影装置
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摘要
本实用新型提供一种涂布显影装置，该涂布显影装置能够应对高生产率的处理且为小型的。所述涂布显影装置具备：处理块，其设置有处理模块；以及中继块，其将所述处理块与所述曝光装置沿宽度方向进行连结，其中，所述中继块设置有搬入搬出机构，所述处理块沿上下方向被进行多层化，所述处理块在沿所述宽度方向延伸的搬送区域设置搬送机构，在所述处理块中的、所述中继块的所述搬入搬出机构可访问的高度位置的层中，在所述中继块侧端设置有交接部，在与所述宽度方向正交的深度方向上隔着所述搬送区域设置的两个区域中的至少一个区域，沿所述宽度方向设置有多个曝光前收容部，在所述两个区域中的未设置所述曝光前收容部的部分设置有非处理单元。
基本信息
专利标题 ：
涂布显影装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022131226.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN214042007U
授权日 ：
2021-08-24
发明人 ：
渡边刚史土山正志佐藤宽起滨田一平
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202022131226.9
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
G
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G03
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法律状态
2021-08-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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