浸润式光阻涂布装置

授权

摘要

本实用新型有关于一种浸润式光阻涂布装置，用于将一全像图图案转移至一饰材，浸润式光阻涂布装置包括：一基座、装有光阻材料的一容器及一圆柱形滚轮。基座具有一第一致动构件；圆柱形滚轮设置于一轮轴上，并与第一致动构件电性连接。其中第一致动构件能使圆柱形滚轮与容器产生一相对位移，且在光阻材料以浸润式涂布于圆柱形滚轮后的状态下，第一致动构件能于容器中或容器外旋转圆柱形滚轮，以将光阻材料均匀涂布至圆柱形滚轮上。本实用新型的浸润式光阻涂布装置，可使光阻材料涂布地更均匀且缩短制作时间。

基本信息

专利标题：

浸润式光阻涂布装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922183973.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-12-09

授权号：

CN211180528U

授权日：

2020-08-04

发明人：

林刘恭

申请人：

光群雷射科技股份有限公司

申请人地址：

中国台湾新竹科学园区

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

韩嫚嫚

优先权：

CN201922183973.4

主分类号：

G03F7/16

IPC分类号：

G03F7/16