用于真空产生的压印的系统和方法
专利权的终止
摘要

本发明提供了一种通过在压印区中产生大致真空而在压印室内产生压力差,从而在可压印材料上压印图案的系统。该系统可被用于在基片中产生导电痕迹,其中集成电路芯片和管芯可被安装到该基片上,以产生半导体封装。低压管道从容器的材料接收区排出空气,在容器中的活塞上产生压差,从而使得活塞将微工具压进可压印材料层。低压管道帮助微工具与压印的材料中的任何厚度变化相适应,并且防止在微工具和压印的材料之间产生气穴。

基本信息
专利标题 :
用于真空产生的压印的系统和方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1824496A
申请号 :
CN200610009580.6
公开(公告)日 :
2006-08-30
申请日 :
2006-02-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
T·比格斯J·韦恩里奇
申请人 :
英特尔公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
肖春京
优先权 :
CN200610009580.6
主分类号 :
B30B5/00
IPC分类号 :
B30B5/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B30
压力机
B30B
一般压力机;不包含在其他类目中的压力机
B30B5/00
以使用包含在B30B1/00和B30B3/00各组中以外的压制装置为特征的压力机
法律状态
2019-02-15 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B30B 5/00
申请日 : 20060224
授权公告日 : 20090708
终止日期 : 20180224
2009-07-08 :
授权
2006-10-25 :
实质审查的生效
2006-08-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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