行式打印头模块、曝光装置、成像装置
专利权的终止
摘要

一种行式打印头模块,其具备行式打印头,所述行式打印头具有整齐排列配置的多个发光元件,通过来自所述发光元件的光而对感光体进行曝光,其中,所述行式打印头模块具备:支承体,其具有相对所述感光体平行的旋转轴;多个所述行式打印头,其被设置在所述支承体的周面上,构成为通过所述支承体以所述旋转轴为中心旋转而可相对所述感光体进行切换的结构。

基本信息
专利标题 :
行式打印头模块、曝光装置、成像装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1831662A
申请号 :
CN200610051590.6
公开(公告)日 :
2006-09-13
申请日 :
2006-03-06
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
内田昌宏
申请人 :
精工爱普生株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
汪惠民
优先权 :
CN200610051590.6
主分类号 :
G03G15/04
IPC分类号 :
G03G15/04  G03G15/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03G
电记录术;电照相;磁记录
G03G15/00
应用电荷图形的电记录工艺的设备
G03G15/04
曝光用的,即将原件图像光学投影到光导记录材料上而进行图像曝光
法律状态
2017-04-19 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101715158199
IPC(主分类) : G03G 15/04
专利号 : ZL2006100515906
申请日 : 20060306
授权公告日 : 20090923
终止日期 : 20160306
2009-09-23 :
授权
2006-11-08 :
实质审查的生效
2006-09-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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