浸润式曝光装置
公开
摘要
本发明实施例涉及浸润式曝光装置。用于浸润式曝光装置的底部镜片包括在所述底部镜片的侧壁上的疏水涂层。所述底部镜片的底部部分未涂覆所述疏水涂层，以保持所述底部镜片的光学性能，并且不会使要转印到衬底上的图案变形。所述疏水涂层能减少所述底部镜片的热不稳定性。这可减少在浸润式曝光装置的操作期间的重叠变异(overlay variation)、可提高制造良率、减少元件故障及/或减少重工和维修。
基本信息
专利标题 ：
浸润式曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509922A
申请号 ：
CN202210041538.1
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2022-01-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李永尧
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六路8号
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李春秀
优先权 ：
CN202210041538.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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