浸润液控制装置、曝光机设备及检测浸润液污染的方法
公开
摘要
本申请公开了一种浸润液控制装置、曝光机设备及检测浸润液污染的方法，该浸润液控制装置，包括：真空抽气管道，其与浸润液供给装置的真空抽气口连通；检测部件，其安装于所述真空抽气管道的内壁，所述检测部件用于检测所述真空抽气管道内的气体流速。通过检测部件对真空抽气管道内的气体流速进行检测，可判断出浸润液流场上是否堆积有污染物，若堆积有污染物则需要及时进行清除，可避免堆积的污染物掉落在浸润液下面的晶圆上，进而可提高制程中的产品良率。
基本信息
专利标题 ：
浸润液控制装置、曝光机设备及检测浸润液污染的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114296324A
申请号 ：
CN202210016450.4
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2022-01-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张燕妮
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市经济技术开发区空港工业园兴业大道388号
代理机构 ：
北京中政联科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郑久兴
优先权 ：
CN202210016450.4
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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