光学膜的制造方法以及光学膜
专利权的终止
摘要
本发明提供一种制造可以充分除去附着在光学膜表面的附着物的光学膜的方法。另外，具体地，提供一种光学膜的制造方法，其特征在于，该制造方法包含将在常温常压下成为气体或液体的冷却固体化的喷射材料喷涂在上述光透过性膜的至少一个面上，并将上述至少一个面洗净的洗净工序、以及在上述洗净工序中洗净的上述光透过性膜表面上涂布至少一层光学功能层的工序。
基本信息
专利标题 ：
光学膜的制造方法以及光学膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1841091A
申请号 ：
CN200610067640.X
公开（公告）日 ：
2006-10-04
申请日 ：
2006-03-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田中武志村上隆
申请人 ：
柯尼卡美能达精密光学株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
张平元
优先权 ：
CN200610067640.X
主分类号 ：
G02B1/00
IPC分类号 ：
G02B1/00 G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
法律状态
2017-05-10 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101718979355
IPC(主分类) : G02B 1/00
专利号 : ZL200610067640X
申请日 : 20060322
授权公告日 : 20100113
终止日期 : 20160322
号牌文件序号 : 101718979355
IPC(主分类) : G02B 1/00
专利号 : ZL200610067640X
申请日 : 20060322
授权公告日 : 20100113
终止日期 : 20160322
2010-01-13 ：
授权
2007-12-19 ：
实质审查的生效
2006-10-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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