用于优化全芯片层照明的方法、程序产品和设备
专利权的视为放弃
摘要
公开了一种全芯片层照明的优化。确定全芯片层的间距频率，以便生成全芯片层的间距频率直方图。该间距频率表示给定的间距出现在全芯片层中的频繁程度。使间距频率直方图与代表变换交叉系数的相干系统之和的第一本征函数相等。求解变换交叉系数的第一本征函数的积分方程，以限定成像全芯片层的最佳照明。
基本信息
专利标题 ：
用于优化全芯片层照明的方法、程序产品和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1892430A
申请号 ：
CN200610071167.2
公开（公告）日 ：
2007-01-10
申请日 ：
2006-02-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
R·J·索查J·F·陈
申请人 ：
ASML蒙片工具有限公司
申请人地址 ：
荷兰维尔德霍芬
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
顾珊
优先权 ：
CN200610071167.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-01-27 ：
专利权的视为放弃
2007-05-30 ：
实质审查的生效
2007-01-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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