本实用新型公开了一种炉管清洗装置，可应用于半导体制造技术领域，该清洗装置包括酸槽、水槽、导轨、传送臂和升降装置，所述导轨位于所述酸槽和所述水槽上方，所述传送臂安装于所述导轨上，并沿所述导轨传送炉管，所述升降装置与所述导轨相连，用于升降所述炉管，其中，所述酸槽包含第一酸槽和第二酸槽，所述传送臂包含第一传送臂和第二传送臂，且所述第一酸槽和所述第二酸槽分别位于所述水槽的两侧。本实用新型的炉管清洗装置解决了现有炉管清洗中的设备利用率较低的问题，同时还具有减少设备购置费及设备占地面积的优点。