包括噻吩和硒吩的单体、低聚物和聚合物
专利权的终止
摘要
本发明涉及新颖的包括噻吩和硒吩的单体、低聚物和聚合物，它们在光、光电或电子器件中用作半导体或电荷迁移材料的用途，以及包括该新颖化合物的光、光电或电子器件。
基本信息
专利标题 ：
包括噻吩和硒吩的单体、低聚物和聚合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101160338A
申请号 ：
CN200680007850.8
公开（公告）日 ：
2008-04-09
申请日 ：
2006-02-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马丁·希尼史蒂文·蒂尔尼瓦伦·达菲拉因·麦卡洛克
申请人 ：
默克专利有限公司
申请人地址 ：
德国达姆施塔特
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
郭国清
优先权 ：
CN200680007850.8
主分类号 ：
C08G61/12
IPC分类号 ：
C08G61/12 C09K19/40 C09K19/38 H01B1/12 C07D421/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08G
用碳-碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物
C08G61/00
由在高分子主链中形成碳-碳键合的反应得到的高分子化合物
C08G61/12
在高分子主链上含有碳原子以外原子的高分子化合物
法律状态
2013-04-10 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101433924989
IPC(主分类) : C08G 61/12
专利号 : ZL2006800078508
申请日 : 20060223
授权公告日 : 20111005
终止日期 : 20120223
号牌文件序号 : 101433924989
IPC(主分类) : C08G 61/12
专利号 : ZL2006800078508
申请日 : 20060223
授权公告日 : 20111005
终止日期 : 20120223
2011-10-05 ：
授权
2008-06-04 ：
实质审查的生效
2008-04-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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