二氧化硅系被膜形成用组合物
授权
摘要
本发明的二氧化硅系被膜形成用组合物，含有硅氧烷聚合物和碱金属化合物。作为该硅氧烷聚合物，优选具有水解性基团的硅烷化合物的水解缩合物。作为上述碱金属化合物的碱金属，可使用钠、锂、钾、铷和铯等。另外，作为上述碱金属化合物，可列举上述碱金属的硝酸盐、硫酸盐、碳酸盐、氧化物、氯化物、溴化物、氟化物、碘化物、氢氧化物的等。该二氧化硅系被膜形成用组合物也可以含有空穴形成用材料。作为该空穴形成用材料，可使用选自聚亚烷基二醇及其末端烷基化物的一种以上。
基本信息
专利标题 ：
二氧化硅系被膜形成用组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101155887A
申请号 ：
CN200680011763.X
公开（公告）日 ：
2008-04-02
申请日 ：
2006-03-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
饭田启之高滨昌
申请人 ：
东京应化工业株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200680011763.X
主分类号 ：
C09D183/04
IPC分类号 ：
C09D183/04 C09D7/12 C09D171/02 H01L21/312
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D
涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用（化妆品入A61K，一般将液体或其他流动物料涂到表面上的方法入B05D；木材着色入B27K5/02；釉料或搪瓷釉入C03C；天然树脂、虫胶清漆、干性油、催干剂、松节油本身入C09F；除虫胶清漆外的抛光组合物、滑雪屐蜡入C09G；黏合剂或用作黏合剂的物质入C09J；用于接头或盖的密封或包装材料入C09K3/10；用于防止泄漏的材料入C09K3/12；电解或电泳生成镀层的方
C09D183/00
基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183/04
聚硅氧烷
法律状态
2012-06-27 ：
授权
2008-05-28 ：
实质审查的生效
2008-04-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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