厚膜导体形成用组合物
授权
摘要

本发明目的在于提供一种熔蚀现象少、且不含铅的厚膜导体形成用组合物。为了达到上述目的,使用由导电粉末、氧化物粉末、有机展色料构成的厚膜导体形成用组合物。其中,所述氧化物粉末包含SiO2-B2O3-Al2O3-CaO-Li2O系玻璃粉末和Al2O3粉末。SiO2-B2O3-Al2O3-CaO-Li2O系玻璃粉末的组成比为,SiO2:20~60质量%、B2O3:2~25质量%、Al2O3:2~25质量%、CaO:20~50质量%、以及Li2O:0.1~10质量%,相对于100质量份的导电粉末,SiO2-B2O3-Al2O3-CaO-Li2O系玻璃粉末为0.1~15质量份、Al2O3粉末为0.1~8质量份。

基本信息
专利标题 :
厚膜导体形成用组合物
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1822240A
申请号 :
CN200610006955.3
公开(公告)日 :
2006-08-23
申请日 :
2006-01-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
川久保胜弘安达良典粟洼慎吾
申请人 :
住友金属矿山株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 :
高龙鑫
优先权 :
CN200610006955.3
主分类号 :
H01B1/14
IPC分类号 :
H01B1/14  C09D5/24  H05K1/09  C04B35/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01B
电缆;导体;绝缘体;导电、绝缘或介电材料的选择
H01B1/00
按导电材料特性区分的导体或导电物体;用作导体的材料选择
H01B1/14
分散在不导电无机材料中的导电材料
法律状态
2010-05-12 :
授权
2006-10-25 :
实质审查的生效
2006-08-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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