一种用于化学镀填充堆叠存储单元互连部件的方法，包括通过在该部件的导电底部将包括钴离子和还原剂的组合物中的钴离子还原为钴金属从而启动自底而上填充的化学沉积。一种用于在高纵横比的堆叠存储单元互连部件中进行钴化学沉积的化学沉积组合物，该组合物包括水、钴离子、络合剂、缓冲剂、硼烷基还原剂组分以及次磷酸盐还原剂组分。硼烷基还原剂与次磷酸还原剂的浓度比约小于0.5。