本实用新型涉及一种全自动低真空灌装机真空机构的改良结构，包括由上真空室、下真空室构成的可转动的真空室和固定设置在该真空室下侧的液缸，一依次伸入所述上、下真空室的真空管，该真空管固定不动，所述真空室可绕该真空管的轴线转动，上、下真空室与下真空室及灌缸之间在同一时间只能择一连通且动作同步、可控性较强、真空度较稳定、排液效果较好；具有在上、下真空室之间、及下真空室与灌缸之间的连通失控时的失控控制装置、系统较稳定、维修较容易。