新型抗反射导电膜
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
摘要
新型抗反射导电膜，有三种不同的具体结构，包含有高折射率层(H)、低折射率层(L)、和透明导电膜(T)、或/和中折射率层(M)；各层膜按照L/H/S/H/L/T型、或(L/H)2/S/(H/L)2/T型、或L/M/H/S/H/M/L/T型的规律排列，形成多层复合膜。本实用新型之新型抗反射导电膜的各膜层的厚度较小，可以简化生产工艺，适合连续批量的生产，特别是适合于生产大面积的抗反射导电膜。本实用新型可以广泛用做光学玻璃或透明塑料基材料上的抗反射导电膜，在液晶显示、阴极射线管、建筑玻璃、触摸屏面板、屏幕滤波器等得到广泛的应用。
基本信息
专利标题 ：
新型抗反射导电膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN200720049795.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2007-03-29
授权号 ：
CN201166713Y
授权日 ：
2008-12-17
发明人 ：
郭爱军
申请人 ：
郭爱军
申请人地址 ：
510410广东省广州市白云区汇侨新城汇侨中路13号1201房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200720049795.0
主分类号 ：
G02B1/11
IPC分类号 ：
G02B1/11
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
法律状态
2009-12-09 ：
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权)
放弃生效日 : 2007329
2008-12-17 ：
授权
2008-02-06 ：
地址不明的通知
收件人 : 郭爱军
文件名称 : 补正通知书
文件名称 : 补正通知书
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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