一种光学镀膜机

专利权的终止

摘要

本实用新型涉及光学制造和光电元器件生产设备技术领域，具体涉及一种光学镀膜机。本实用新型要解决现有技术存在的无法满足各种光学薄膜和光电功能多层薄膜以及光电微系统制备的需求，且设备投入成本高的问题。为解决现有技术存在的问题，所提供的技术方案是，一种光学镀膜机，包括真空镀膜室，温度控制系统，膜厚控制系统，气体流量提供、控制系统和薄膜蒸发系统，所述薄膜蒸发系统包括阴极真空电弧发生装置、磁控溅射装置和热蒸发装置。与现有技术相比，本实用新型的优点如下：可以满足各种光学薄膜和光电功能多层薄膜以及光电微系统制备需求，功能全面，减少设备投资成本，同时可大幅提高生产效率。

基本信息

专利标题：

一种光学镀膜机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN200820030249.7

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2008-09-11

授权号：

CN201250283Y

授权日：

2009-06-03

发明人：

杭凌侠弥谦刘卫国徐均琪梁海峰潘永强惠迎雪

申请人：

西安工业大学

申请人地址：

710032陕西省西安市金花北路4号

代理机构：

西安新思维专利商标事务所有限公司

代理人：

黄秦芳

优先权：

CN200820030249.7

主分类号：

C23C14/22

IPC分类号：

C23C14/22