一种真空光学镀膜机
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摘要
本实用新型公开了一种真空光学镀膜机，涉及镀膜机技术领域。本实用新型包括壳体，壳体内设有蒸发室和镀膜室，蒸发室内设有加热装置，蒸发室和镀膜室之间均设有隔离板，隔离板的一侧板面设有第一安装槽、第一挡板、第二安装槽和第二挡板，隔离板的板面上整列有多个第一通孔，第二挡板上设有与第一通孔相互配合的第二通孔。本实用新型通过设置第一挡板和第二挡板，通过将第一通孔完全挡住隔离蒸发室和镀膜室，可以将内部的空气处理完，不影响镀膜质量，且通过第二挡板进而控制裸露的第一通孔的大小，控制膜成型后期空间中的气态薄膜材料以较小的量沉积在基板上实现精密把控。
基本信息
专利标题 ：
一种真空光学镀膜机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922498539.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-31
授权号 ：
CN212175028U
授权日 ：
2020-12-18
发明人 ：
王琦王海军王阜平
申请人 ：
南京明瑞光电技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省南京市秦淮区贡院街13-2号
代理机构 ：
连云港联创专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
赵晓琴
优先权 ：
CN201922498539.5
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26 C23C14/50
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2020-12-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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