具有改善的稳定性和改善的抛光特性的选择性氮化物淤浆
授权
摘要
本发明提供一种化学机械抛光组合物，其包括以下组分、基本上由以下组分组成、或由以下组分组成：(a)约0.01重量％至约1重量％的湿加工氧化铈，(b)约10ppm至约200ppm包含季氨基团的阳离子聚合物，(c)约10ppm至约2000ppm非氟化非离子表面活性剂，(d)氨基酸，和(e)水，其中该抛光组合物具有约3至约8的pH。本发明进一步提供一种使用该抛光组合物抛光基板的方法。
基本信息
专利标题 ：
具有改善的稳定性和改善的抛光特性的选择性氮化物淤浆
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108026432A
申请号 ：
CN201680052336.X
公开（公告）日 ：
2018-05-11
申请日 ：
2016-08-29
授权号 ：
CN108026432B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
P.潘戴伊张柱然B.瑞斯
申请人 ：
嘉柏微电子材料股份公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
孙梵
优先权 ：
CN201680052336.X
主分类号 ：
C09K3/14
IPC分类号 ：
C09K3/14 C09G1/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K3/00
不包含在其他类目中的材料
C09K3/14
防滑材料；研磨材料
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2021-09-10 ：
著录事项变更
IPC(主分类) : C09K 3/14
变更事项 : 申请人
变更前 : 嘉柏微电子材料股份公司
变更后 : CMC材料股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国伊利诺伊州
变更后 : 美国伊利诺伊州
变更事项 : 申请人
变更前 : 嘉柏微电子材料股份公司
变更后 : CMC材料股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国伊利诺伊州
变更后 : 美国伊利诺伊州
2018-06-05 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09K 3/14
申请日 : 20160829
申请日 : 20160829
2018-05-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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