借助于电-机械换能器箔对用于差分相衬成像的光栅的聚焦
授权
摘要
一种用于在X射线成像器(IM)中的相衬成像应用中使用的光栅组件(GAi)。所述组件(GAi)包括被耦合至所述组件(GAi)的光栅结构(Gi)的电致伸缩层。经由所述耦合，所述光栅结构的脊(RG)能够被变形为与所述成像器(IM)的X射线源(XR)的焦斑(FS)对准。这允许减小X射线阴影效应。
基本信息
专利标题 ：
借助于电-机械换能器箔对用于差分相衬成像的光栅的聚焦
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108140439A
申请号 ：
CN201680057949.2
公开（公告）日 ：
2018-06-08
申请日 ：
2016-09-23
授权号 ：
CN108140439B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
G·马滕斯U·范斯特文达勒
申请人 ：
皇家飞利浦有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
王英
优先权 ：
CN201680057949.2
主分类号 ：
G21K1/02
IPC分类号 ：
G21K1/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K1/00
粒子或电离辐射的处理装置，如聚焦或慢化
G21K1/02
使用光阑、准直器
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2018-11-02 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G21K 1/02
申请日 : 20160923
申请日 : 20160923
2018-06-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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