用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻
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摘要

描述了使用围限结构和/或图案光栅减少或防止密封剂聚合物(例如胶水)芯吸到多层光学组装件的光学活性区中的技术。多层光学结构可包括压印了波导光栅图案的多个衬底层。可以使用封边胶,如树脂、环氧树脂、胶水等固定所述多个层。可沿各层的边缘压印围限结构,如边缘图案以控制和围限封边胶的毛细流动并防止封边胶芯吸到这些层的功能波导光栅图案中。此外,封边胶可用碳掺杂或以其它方式加黑以减少光从边缘反射回层内部,由此改进该组装件的光学功能。

基本信息
专利标题 :
用于光学器件的边缘密封剂围限和光晕减轻
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109804278A
申请号 :
CN201780051980.X
公开(公告)日 :
2019-05-24
申请日 :
2017-08-24
授权号 :
CN109804278B
授权日 :
2022-04-29
发明人 :
M·N·米勒F·Y·徐V·辛格E·C·布洛伊J·舍费尔R·D·泰克尔斯特V·K·刘S·巴尔加瓦J·D·施穆伦B·T·朔文格特
申请人 :
分子印记公司
申请人地址 :
美国德克萨斯州
代理机构 :
北京市中咨律师事务所
代理人 :
张蓉珺
优先权 :
CN201780051980.X
主分类号 :
G02B5/18
IPC分类号 :
G02B5/18  B82Y40/00  G03F7/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-04-29 :
授权
2019-09-17 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20170824
2019-05-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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