基于波长的光学过滤
授权
摘要
一种用于极紫外(EUV)光刻工具的光源，包括：光生成系统，包括光生成模块；光学放大器，包括与增益带相关联的增益介质，增益介质被配置为放大具有增益带中的波长的光；以及基于波长的光学滤光器系统，位于光生成模块和光学放大器之间的光束路径上，基于波长的光学滤光器系统包括至少一个光学元件，至少一个光学元件被配置为允许具有第一波长集合中的波长的光在光束路径上传播，并且允许从光束路径中移除具有第二波长集合中的波长的光，第一波长集合和第二波长集合包括光学放大器的增益带中的不同波长。
基本信息
专利标题 ：
基于波长的光学过滤
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109791075A
申请号 ：
CN201780057238.X
公开（公告）日 ：
2019-05-21
申请日 ：
2017-09-14
授权号 ：
CN109791075B
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
A·A·沙夫甘斯I·V·福门科夫陶业争R·罗基斯特斯基D·J·W·布朗C·A·史汀生R·J·拉法克
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
王茂华
优先权 ：
CN201780057238.X
主分类号 ：
G01J3/10
IPC分类号 ：
G01J3/10 G02B5/18 G02B5/26 G03F7/20 H05G2/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J3/00
光谱测定法；分光光度测定法；单色器；测定颜色
G01J3/02
零部件
G01J3/10
专用于光谱学或色度学的光源装置
法律状态
2022-04-05 ：
授权
2019-10-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 3/10
申请日 : 20170914
申请日 : 20170914
2019-05-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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