一种电阻测量方法及电阻测量装置

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摘要

本发明提供一种电阻测量方法及电阻测量装置，用于测量绝缘层的过孔位置的阻值，绝缘层的第一侧形成有第一导电图形，绝缘层的第二侧形成有第二导电图形；第一导电图形和第二导电图形通过所述绝缘层的过孔连接。其中，电阻测量方法包括：向第一导电图形施加第一电压和第一电流，向第二导电图形施加第二电压；其中，第二电压的电压值小于所述第一电压的电压值；第一电流在第一导电图形上经所述过孔传递至所述第二导电图形以形成第二电流；测量所述第二导电图形上的第二电流；根据所述第一电压与第二电压的电压差值以及第二电流的电流值计算所述过孔位置的阻值。本发明的方案能够测量过孔位置的阻值，可用于评估过孔位置的制作工艺。

基本信息

专利标题：

一种电阻测量方法及电阻测量装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN108519519A

申请号：

CN201810321034.9

公开（公告）日：

2018-09-11

申请日：

2018-04-11

授权号：

CN108519519B

授权日：

2022-06-03

发明人：

宋玉冰薛静谷玥

申请人：

京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司

申请人地址：

北京市朝阳区酒仙桥路10号

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司

代理人：

许静

优先权：

CN201810321034.9

主分类号：

G01R27/08

IPC分类号：

G01R27/08