一种X射线探测器件及其制作方法
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摘要

本发明公开了一种X射线探测器件及其制作方法,该光栅极型X射线探测器包括衬底;底部栅电极,其形成在所述衬底上;下栅绝缘层,其形成在底部栅电极上;源电极和漏电极,其形成在栅绝缘层上且相互隔开,并与底部栅极有一定相互交叠区域;沟道半导体层,其形成在所述源电极和漏电极上;电荷收集电极,其形成在栅绝缘层上,并与所述源电极和漏电极分别由一定交叠区域;X射线光电导层,其形成在电荷收集电极和上栅绝缘层上;上电极,其形成在所述X射线光电导层上。本发明的X射线探测器件通过采用纵向堆叠的器件结构设计,采用高迁移率沟道半导体层材料和高灵敏度X射线光电导材料,能够实现高灵敏度快速X射线探测。

基本信息
专利标题 :
一种X射线探测器件及其制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN108646283A
申请号 :
CN201810563401.6
公开(公告)日 :
2018-10-12
申请日 :
2018-06-04
授权号 :
CN108646283B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
王凯徐杨兵陈军
申请人 :
中山大学
申请人地址 :
广东省广州市海珠区新港西路135号
代理机构 :
广州新诺专利商标事务所有限公司
代理人 :
林玉芳
优先权 :
CN201810563401.6
主分类号 :
G01T1/24
IPC分类号 :
G01T1/24  H01L31/119  H01L31/18  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/00
X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量
G01T1/16
辐射强度测量
G01T1/24
用半导体探测器
法律状态
2022-04-08 :
授权
2018-11-06 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01T 1/24
申请日 : 20180604
2018-10-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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