高透射高溶解性的大分子染料，彩色光敏树脂组合物及彩色滤光...
授权
摘要
本发明提出一种大分子染料，该染料除了具有较好的油溶性，以及较高的透过率，还具有合适的色相、环境耐受性、色牢度和较低的移染性。本发明还提出一种使用该大分子染料的彩色光敏树脂组合物以及使用该组合物制备的彩色滤光片，具有较好的耐热性、耐光性、辉度和对比度。所述染料具有如式(1)所示的结构式：其中，M为Ti、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Zn或Cd；X1～X4为卤素，可以相同也可以不同；a～d各自表示0～3的整数；R1～R4可以相同也可以不同，其结构如下所示；R5的结构如下所示，e表示1～5的整数，e大于1时，苯氧基团上的e条R5可以相同也可以不同；r，n，m，p，q为零或正整数且r+q+p+n+m≥10；R6的结构如下所示；
基本信息
专利标题 ：
高透射高溶解性的大分子染料，彩色光敏树脂组合物及彩色滤光片
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110850679A
申请号 ：
CN201810953839.5
公开（公告）日 ：
2020-02-28
申请日 ：
2018-08-21
授权号 ：
CN110850679B
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
桑伟刘永祥李青松侯少堃高月
申请人 ：
北京鼎材科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区西小口路66号中关村东升科技园D区2号楼308室
代理机构 ：
北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
崔永华
优先权 ：
CN201810953839.5
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/027 C09B69/10 G02B5/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-03 ：
授权
2021-05-28 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20180821
申请日 : 20180821
2020-02-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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