静电卡盘保护结构、灌胶装置以及灌胶工艺
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摘要

本发明静电卡盘保护结构涉及一种用于保护静电卡盘上的粘接剂的结构。其目的是为了提供一种提高对粘接层保护效果的保护结构。本发明保护结构用于对粘接层的粘接剂的保护,静电卡盘包括绝缘层、夹在绝缘层之间的金属电极以及金属基座,金属基座与绝缘层之间通过粘接层实现粘接连接,保护结构包括容置腔和填充于容置腔内的保护剂,保护剂在容置腔内形成具有一定厚度的保护层,容置腔位于靠近金属基座与绝缘层的外边缘处且位于金属基座与绝缘层的粘接面一侧的位置上,容置腔的高度大于粘接层的厚度,粘接层的外边缘预留有灌注口,保护剂通过灌注口灌注到容置腔内。本发明大大提高了对粘接剂的保护效果,可靠性高。

基本信息
专利标题 :
静电卡盘保护结构、灌胶装置以及灌胶工艺
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN110875230A
申请号 :
CN201810992501.0
公开(公告)日 :
2020-03-10
申请日 :
2018-08-29
授权号 :
CN110875230B
授权日 :
2022-06-14
发明人 :
张玉利侯占杰杨鹏远王建冲唐娜娜韩玮琦黎远成荣吉平姜鑫
申请人 :
北京华卓精科科技股份有限公司
申请人地址 :
北京市大兴区北京经济技术开发区地盛北街1号院41号楼18层1802
代理机构 :
北京头头知识产权代理有限公司
代理人 :
刘锋
优先权 :
CN201810992501.0
主分类号 :
H01L21/683
IPC分类号 :
H01L21/683  B05C5/02  B05C9/14  B05C13/02  B05D1/26  B05D1/32  B05D3/02  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2022-06-14 :
授权
2021-11-19 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01L 21/683
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京华卓精科科技股份有限公司
变更后 : 北京华卓精科科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区地盛北街1号院41号楼18层1802
变更后 : 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创十街19号院2号楼2层(北京自贸试验区高端产业片区亦庄组团)
2020-04-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/683
申请日 : 20180829
2020-03-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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