成膜装置、成膜方法以及有机EL显示装置的制造方法
授权
摘要
本发明提供一种成膜装置，用于经由掩模在基板上进行成膜，其中，包括基板保持单元以及静电吸盘，所述基板保持单元包括用于支承基板的周缘部的支承部；所述静电吸盘设置于所述支承部的上方，用于吸附基板，所述静电吸盘包括产生电压的电源部、施加所述电压的电极部以及用于控制向所述电极部施加的所述电压的电压控制部，所述电压控制部，在使所述静电吸盘吸附基板时以作为所述电压向所述电极部施加第一电压的方式进行控制，在所述静电吸盘吸附基板之后，在开始蒸镀工序之前，以作为所述电压向所述电极部施加比所述第一电压低的第二电压的方式进行控制。
基本信息
专利标题 ：
成膜装置、成膜方法以及有机EL显示装置的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109837507A
申请号 ：
CN201811006629.1
公开（公告）日 ：
2019-06-04
申请日 ：
2018-08-31
授权号 ：
CN109837507B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
石井博柏仓一史
申请人 ：
佳能特机株式会社
申请人地址 ：
日本新泻县
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
刘日华
优先权 ：
CN201811006629.1
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 C23C14/50 C23C14/54 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-06-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20180831
申请日 : 20180831
2019-06-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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