基板及其制作方法、显示装置
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摘要

一种基板及其制作方法、显示装置。该基板包括:第一衬底、多个第二条状电极、第二衬底、多个第二条状电极以及阻隔墙。第一衬底包括绑定区;多个第一条状电极位于第一衬底上的绑定区;多个第二条状电极位于第二衬底上,多个第二条状电极通过各向异性导电胶绑定到位于绑定区的多个第一条状电极上;阻隔墙位于相邻的第一条状电极之间。各向异性导电胶包括位于第一条状电极与第二条状电极之间的第一部分以及相邻的第一条状电极之间除阻隔墙以外的空隙的第二部分。本公开实施例的基板中设置的阻隔墙,可以降低第一衬底与第二衬底之间的各向异性导电胶溢胶不良而产生缝隙的几率,从而避免盐雾渗透进缝隙中。

基本信息
专利标题 :
基板及其制作方法、显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN109188790A
申请号 :
CN201811068860.3
公开(公告)日 :
2019-01-11
申请日 :
2018-09-13
授权号 :
CN109188790B
授权日 :
2022-04-15
发明人 :
蒋宜辰赵必玉吴建君汪江胜李泽文
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
焦玉恒
优先权 :
CN201811068860.3
主分类号 :
G02F1/1343
IPC分类号 :
G02F1/1343  G02F1/1339  G02F1/1345  H01L27/32  G06F3/041  
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IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
G02F1/1343
电极
法律状态
2022-04-15 :
授权
2019-02-12 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1343
申请日 : 20180913
2019-01-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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