阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法
实质审查的生效
摘要
本申请提供一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法，阵列基板包括衬底、第一信号线以及阻挡层。第一信号线位于非显示区内，第一信号线包括在衬底上层叠设置的第一分部和第二分部，第二分部沿宽度方向超出第一分部的外边缘的宽度不小于20μm。其中，阻挡层设置在第一分部背离显示区的一侧并覆盖第一分部的至少部分外边缘，且至少部分阻挡层背离衬底的一侧与第二分部贴合设置。本申请实施例通过在第一分部的边缘位置处设置了阻挡层，避免第一分部的外边缘处出现侧切现象，也降低了第二分部出现断裂的可能性，提高了产品良品率。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板、显示装置及阵列基板的制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114361181A
申请号 ：
CN202111535165.5
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-15
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田苗苗马志丽朱正勇何国冰
申请人 ：
维信诺科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山开发区夏东街658号1801室
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
娜拉
优先权 ：
CN202111535165.5
主分类号 ：
H01L27/12
IPC分类号 ：
H01L27/12 H01L21/77
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20211215
申请日 : 20211215
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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