高折射率膜及光学干涉膜
授权
摘要
本发明提供一种高折射率膜及使用了上述高折射率膜的光学干涉膜，该高折射率膜具有包含粘合剂和扁平状金属粒子的高折射率层，上述扁平状金属粒子的平均粒径除以平均厚度而得到的值为3以上，上述扁平状金属粒子的主平面相对于高折射率层的表面在0°～30°的范围面取向，上述扁平状金属粒子在高折射率层中的体积分数为20体积％以上，上述扁平状金属粒子层叠有2层以上。
基本信息
专利标题 ：
高折射率膜及光学干涉膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110476091A
申请号 ：
CN201880022092.X
公开（公告）日 ：
2019-11-19
申请日 ：
2018-03-02
授权号 ：
CN110476091B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
安田英纪松野亮原田基
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
张志楠
优先权 ：
CN201880022092.X
主分类号 ：
G02B5/28
IPC分类号 ：
G02B5/28 G02B1/111 G02B5/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/20
滤光片
G02B5/28
干涉滤光片
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2019-12-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/28
申请日 : 20180302
申请日 : 20180302
2019-11-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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