干涉法折射率测定仪
专利权的视为放弃
摘要
本发明公开了一种用干涉法测定光学透明材料特别是高折射率材料和各向异性晶体的折射率绝对值的光学仪器，它对待测样品形状的要求仅是有一对平行的通光平面，它对待测折射率的范围无限制。它的干涉仪由于使用同光路干涉模式，因而有极好的稳定性。由于使用了计算机它工作完全是自动化的。它测折射率的精度可达1×10-5。它无需改造便可用来测定连续激光的波长。它测波长的精度可达5×10-10cm。
基本信息
专利标题 ：
干涉法折射率测定仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1077533A
申请号 ：
CN92108381.5
公开（公告）日 ：
1993-10-20
申请日 ：
1992-04-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
徐怀方
申请人 ：
上海师大科技开发总公司
申请人地址 ：
200234上海市桂林路十号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN92108381.5
主分类号 ：
G01N21/45
IPC分类号 ：
G01N21/45
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/41
折射率；影响相位的性质，例如光程长度
G01N21/45
利用干涉量度法，利用纹影方法
法律状态
2005-10-19 ：
专利权的视为放弃
1993-10-20 ：
公开
1993-03-24 ：
实质审查请求的生效
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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