激光装置和对薄膜进行加工的方法
授权
摘要
一种对沉积在基底上的薄膜进行光纤激光加工的方法包括:提供来自至少一个光纤激光器的激光束,该激光束通过光束成形单元被引导到薄膜上。光束成形光学器件被配置成将激光束成形为线光束,该线光束照射薄膜表面上的第一照射薄膜区域Ab,其中照射薄膜区域Ab是薄膜区域Af的一部分。通过在连续的照射之间使光束成形光学器件和膜在第一方向上以距离dy相对彼此连续移位,在膜表面上形成一系列均匀的照射薄膜区域Ab,由此限定第一细长列。此后,光束成形光学器件和膜在横向于第一方向的第二方向上以距离dx彼此相关地移位,距离dx小于照射膜区域Ab的长度。通过执行用于形成各个列的步骤,细长列彼此交叠,从而覆盖期望的薄膜区域Af。选择距离dx和dy,使得膜区域Af的每个位置在累积的预定持续时间内曝光于成形的激光束。
基本信息
专利标题 :
激光装置和对薄膜进行加工的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111065759A
申请号 :
CN201880058227.8
公开(公告)日 :
2020-04-24
申请日 :
2018-07-31
授权号 :
CN111065759B
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
亚历山大·里马诺夫迈克尔·冯达尔曾乔舒亚·舍恩利曼纽尔·莱昂纳多
申请人 :
IPG光子公司
申请人地址 :
美国马萨诸塞州
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
纪雯
优先权 :
CN201880058227.8
主分类号 :
C23C14/58
IPC分类号 :
C23C14/58 B23K26/082 C23C16/56 B23K26/352 B23K26/08 H01S3/10
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/58
后处理
法律状态
2022-05-10 :
授权
2020-06-09 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/58
申请日 : 20180731
申请日 : 20180731
2020-04-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载