使用双层负胶做掩膜进行金属薄膜剥离的方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种使用双层负胶做掩膜进行金属薄膜剥离的方法，包括以下步骤：1）在清洗后的衬底上旋涂CP值为25±1的底胶，而后对涂覆有底胶的衬底进行第一次烘烤，烘烤温度控制在115‑125℃间，烘烤时间控制在100±2s；2）在所述底胶上旋涂CP值为12±1的面胶，并进行第二次烘烤，烘烤温度控制在120‑130℃间，烘烤时间控制在100s+/‑2s；3）在曝光机上使用UV进行曝光，曝光量为120mj/cm2；4)经PEB、显影后，在镀膜机中采用电子束蒸镀方式镀覆金属膜；5）在NMP溶剂中，在温度为75±3℃，压强为标准大气压的环境下进行剥离，其中，底胶采用了光交联型负胶，面胶采用了光聚合型负胶。该剥离方法工艺稳定，得到的产品的碎片率低，胶层不易塌陷，叉指条形状边缘更优。
基本信息
专利标题 ：
使用双层负胶做掩膜进行金属薄膜剥离的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114268289A
申请号 ：
CN202111512360.6
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2021-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张啸云刘仁
申请人 ：
张家港声芯电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市张家港华夏科技园3号厂房C座2层（声芯）
代理机构 ：
苏州启华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐伟华
优先权 ：
CN202111512360.6
主分类号 ：
H03H3/02
IPC分类号 ：
H03H3/02
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H03H 3/02
申请日 : 20211207
申请日 : 20211207
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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